图书介绍

硅化物及其在超大规模集成电路中的应用【2025|PDF下载-Epub版本|mobi电子书|kindle百度云盘下载】

（美）穆拉尔卡（Murarka，S.P.）著；赵　英译著
出版社：天津：南开大学出版社
ISBN：7310000463
出版时间：1987
标注页数：192页
文件大小：5MB
文件页数：198页
主题词：硅化物(学科: 应用-超大规模集成电路) 超大规模集成电路-硅化物(学科: 应用)

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图书目录

目录1

第一章引言3

A、概论3

B、MOS器件——栅和内部互连线级的RC延迟和速度6

C、肖特基势垒器件16

D、接触金属化和接触电阻26

第二章性质31

A、电阻率31

B、电阻率的温度依赖性46

C、晶体结构47

D、应力51

E、化学反应能力66

第三章热力学考虑71

A、硅化物的形成热（△Hf）71

B、二元相图和金属间化合物的形成77

C、相互固溶性和扩散系数87

D、电迁移电阻96

A、金属间化合物的形成——动力学98

第四章形成98

B、金属间化合物的形成——杂质的影响105

C、硅化物的形成——实验技术114

第五章氧化129

A、概述129

B、实验结果131

C、氧化机理139

D、硅化物上氧化层的介质击穿141

A、刻蚀图案146

第六章集成电路制造146

B、金属化150

C、硅化物的工艺稳定性151

第七章特殊应用156

A、浅硅化物接触156

B、外延硅化物164

C、富硅的二硅化物167

D、数据库光学存储168

参考文献169